光刻只是在光刻胶上定义了二维图形,而刻蚀设备的作用,就是严格按照这个图形,对下层的硅片或薄膜材料进行精确的三维雕刻,从而形成真正的物理结构,如晶体管的栅极、电容的深槽等。工艺分类:刻蚀主要分为湿法刻蚀...
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