
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
电的适用温度范围宽,-150°C至400°C
兼容200mm以下所有尺寸的晶圆
快速更换到不同尺寸的晶圆工艺
购置成本低且易于维护
紧密的设计,布局灵活
实时清洗和终点监测
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