您现在所在位置:首页 > 产品中心 > 半导体前道工艺设备 > 离子注入

光刻机

PVD设备

CVD设备

量测设备

刻蚀机

涂胶显影

CMP设备

热处理设备

离子注入

ALD设备

电镀设备

Purion XE 系列高能离子注入机

发布日期:2026-02-12浏览次数:递增失败!

我们的 Purion XE 系列离子注入机迅速赢得了行业标杆的美誉,适用于当今要求严苛的高能工艺。独特的射频直线加速器 (LINAC) 技术相比竞品平台具有更好的可靠性,更宽的能量范围,更高的产能,以及卓越的金属污染控制水平。


纯度

基于 RF LINAC 的离子束路径蕴含多重过滤技术,滤除了其它设计无法清除的杂质,实现了业界低的金属和颗粒物污染。


精度

专有型 VectorTM 控制系统独具特色地提供原位水平和垂直角度测量校正功能,使零度注入成为可能。


产能

依托我们的高速 Purion 基站和 RF LINAC 离子束路径,实现了高达 500 片/小时的产量,在广泛的能量范围内(40 千电子伏特至 15 兆电子伏特)提供业界大束流。


18680386615