
REAL RTP100型快速退火炉是韩国ULTECH公司的一款4寸片快速退火炉,采用革新的加热技术,可实现真正的基底温度测量,不需要采用传统快速退火炉的温度补偿,温度控制精确,温度重复性高,客户包括国际上许多半导体公司及知名科研团队,是半导体制程退火工艺的理想选择。
- 真正的基片温度测量,无需传统的温度补偿
- 红外卤素管灯加热
- 其优异的加热温度精确性与均匀性
- 快速数字PID温度控制
- 不锈钢冷壁真空腔室
- 系统稳定性好
- 结构紧凑,小型桌面系统
- 带触摸屏的PC控制
- 兼容常压和真空环境,真空度标准值为5×10-3Torr,采用二级分子泵真空度低至5×10-6Torr
- 高达3路气体(MFC控制)
- 没有交叉污染,没有金属污染
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