ALD FlexAL

lexAL系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。

在同一设备中可灵活使用远程等离子体与热ALD

集群式配置保证始终于真空下传送衬底

盒式对盒式操作可提高产能以适于量产

对材料和气体/液体源的选择具有更大的灵活性

等离子体ALD可进行低温工艺

使用远程等离子体以确保低损伤

通过配方驱动的软件界面实现可控的和可重复的工艺

可处理高达200mm的晶圆