原子层沉积系统 ALD-4000

独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统

Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能

安全互锁设计，强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）

12”的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖

多7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀

ALD-4000原子层沉积系统选配项：

NLD-4000系统的选配项包含自动L/UL上下载(用于6”基片)

ICP离子源(用于等离子增强的PEALD)

臭氧发生器