桌上型无掩膜光刻机 UMLA

桌上型μMLA系统拥有我们先进的无掩膜激光直写技术，是所有需要微结构的研究单位和开发领域的完美入门工具，例如微流体学、微光学、传感器、微机电系统和材料科学等。μMLA具有前所未有的灵活性和可定制性，并且可支持使用毫米(millimeter)大小范围样品。

选择所需的曝光模式，甚至可以选配两种模式：光栅扫描光刻模块，快速曝光复杂的图型；向量光刻模块，创建光波导的平滑轮廓。此外，μMLA提供2种光学设置选择，具有不同的通量和可变分辨率范围。在您的光学设置内，软件可轻松切换三种配置，根据您的要求优化分辨率和速度。