您现在所在位置:首页 > 产品中心 > 半导体前道工艺设备 > 热处理设备

光刻机

PVD设备

CVD设备

量测设备

刻蚀机

涂胶显影

CMP设备

热处理设备

离子注入

ALD设备

电镀设备

全自动激光退火设备 DSI-S-LA9200

发布日期:2026-02-12浏览次数:递增失败!

主要特点:


1、整机模块化设计与集成,提供系统解决方案


2、退火面均匀性高,电学特性优秀


3、兼容4、6英寸薄片晶圆


4、激光分布均匀、能量稳定,配置监控与补偿系统


5、严格控制腔体含氧量和非退火面温度


6、高精度全自动EFEM传输模组


7、符合SEMI标准,支持SECS-GEM通信



应用范围:


对重掺杂碳化硅(SiC)表面沉积的过渡金属进行退火,形成良好的欧姆接触


18680386615