MicroTec- MA6 型光刻机

SUSS MicroTec公司MA6型光刻机是针对高等大学及科研院所而设计开发的; 具有操作灵便、高精度等特点。是一款实验室光刻工艺开发理想的经济型工艺技术设备。

采用不同的曝光模式，可以达到0.5pm 的光刻线条分辨率。

MA6 型双面光刻机被广泛地应用于微电子机械、光电及纳米器件的工艺开发; 适用的芯片材料可以覆盖硅、III-V 族化合物半导体。适用的大芯片尺寸为6 英寸; 大掩模版尺寸为7X7 英寸。

它可以配备单视场或双视场显微镜，达到快速、准确的对准。可以配备背面对准显微镜系统及图像存储系统，进行双面对准曝光。

还可以升级成为光栅光刻机、纳米压印机。